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第九十一章 芯片与光刻

芯片是国人长久以来的痛,且难以解决。

当然,这个解决只是高端的芯片,纳米制程在3-20纳米这个区间,20纳米以上的,基本已被攻克,问题并不是太大。

唯有3-20纳米这个区间,每缩小一个等级,所需要的光刻机以及工艺制程的难度就高了一个量级,甚至有难如登天的说法。

不知道多少国外的技术大拿断言,哪怕是给国内图纸,国内也制造不出来。

因为这种东西,就跟原子弹一样,设计原理很简单,但真要去做可是千难万难,根本解决不了原料、设备、工艺等等问题。在某种程度上,芯片比原子弹还要高难度,原子弹是要能爆炸就行,大小不是太重要,芯片却是越小越好,都往电子层级去了。

但无论是设备、原材料、辅料这些,国内都存在很大短板,甚至一片空白。

如此情况下,要想制造一块高端芯片的确是有如走蜀道,难如登天。

中正公司在芯片的设计上,经过几十年的持续投入,如今已经可以说是独步天下了,足以和世界顶尖的鹰酱一较高下。

然而,制造商一卡,中正公司……

(ò﹏ò)

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