投影式光刻机，最重要的就是掩膜版的制作，掩膜版制作完成，工作就算是完成了大半。
不过由于多层次立体晶体管架构的特殊性，掩膜版并不止一块，而是多块多层次，分别进行曝光，才能完成。
多块掩膜版的切换，自然也不是原本的光刻机能够做到的，为此杨青对光刻机的光学系统，还有工作台，做了大改，以适应这些特别的加工需求。
也幸亏杨青是生活在华国这个加工业的大国，大部分的零部件，哪怕是需要进口的高精度伺服电机，也能在短时间内到货，让杨青的改进工作顺利了许多。
仅仅光刻机的改进工作，就持续了一个月的时间，从还有些暖意的晚秋，一直持续到冰冷的寒冬，才算是彻底结束。
杨青学的是计算机，但是光刻机作为人类工业文明的最高结晶，汇集了机械，电子，光学还有软件方面的大量成果，尽管眼前他所使用的是DUV，而不是阿斯麦的最新成果EUV，可是想要对它进行改进，同样不仅需要跨越各行业，各门类的知识水平，还需要同样强悍的动手能力。
不说……
(ò﹏ò)
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